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陶瓷基片爐具有高穩定性、高人性化、低維護的特點，采用非接觸式高溫測量、真空系統過濾保護、獨特尾氣處理設計。主要用于氮化硅/氮化鋁流延基片等先進材料進行真空，脫氣、加壓致密化等，廣泛應用于航天航空、電子電器半導體等領域。